Revista de Metalurgia, Vol 34, No 2 (1998)

Texturado superficial de silicio mediante láser pulsado


https://doi.org/10.3989/revmetalm.1998.v34.i2.678

L. Ponce
IMRE-Univ. de La Habana, Cuba

A. Castellanos
IMRE-Univ. de La Habana, Cuba

M. Arronte
IMRE-Univ. de La Habana, Cuba

T. Flores
IMRE-Univ. de La Habana, Cuba

E. Rodríguez
IMRE-Univ. de La Habana, Cuba

R. León
IMRE-Univ. de La Habana, Cuba

A. Montaigne
IMRE-Univ. de La Habana, Cuba

Resumen


Se realiza el texturado de superficies de silicio con un láser pulsado mediante la formación de una estructura periódica inducida por láser (LIPSS). Se caracteriza el proceso mediante reflectancia dinámica, determinándose el umbral de formación de la estructura. Se caracteriza el nivel de texturado midiendo la reflectancia espectral de las muestras antes y después del tratamiento. El valor medio de la reflectancia espectral disminuye hasta el 6 %.

Palabras clave


Láser; Texturado; Silicio; Reflectancia; LIPSS

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