Texturado superficial de silicio mediante láser pulsado
DOI:
https://doi.org/10.3989/revmetalm.1998.v34.i2.678Palabras clave:
Láser, Texturado, Silicio, Reflectancia, LIPSSResumen
Se realiza el texturado de superficies de silicio con un láser pulsado mediante la formación de una estructura periódica inducida por láser (LIPSS). Se caracteriza el proceso mediante reflectancia dinámica, determinándose el umbral de formación de la estructura. Se caracteriza el nivel de texturado midiendo la reflectancia espectral de las muestras antes y después del tratamiento. El valor medio de la reflectancia espectral disminuye hasta el 6 %.
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